파이 형상 처리를 발생시키기 위한 대칭적인 플라즈마 소스

RF 핫 전극(hot electrode)을 갖는 하우징을 포함하는 플라즈마 소스 어셈블리들이 설명되며, RF 핫 전극은 바디, 및 RF 핫 전극으로부터 하우징의 전방 면 내의 개구 쪽으로 수직으로 연장하는 복수의 소스 전극들을 갖는다. 플라즈마 소스 어셈블리들을 포함하는 프로세싱 챔버들, 및 플라즈마 소스 어셈블리들을 사용하는 방법들이 또한 설명된다.