[中国发明,中国发明授权]
CN202110351415.3
一种高轨SAR对低轨SAR成像的射频干扰影响评估方法
著录项
申请号
CN202110351415.3
申请日
20210331
公开号
CN113156437A
公开日
20210723
申请(专利权)人
北京理工大学
北京理工大学重庆创新中心
北京理工大学前沿技术研究院
当前权利人
北京理工大学
北京理工大学重庆创新中心
北京理工大学前沿技术研究院
发明人
董锡超
隋仪
陈志扬
李元昊
胡程
地址
北京市海淀区中关村南大街5号
国省代码
北京(11)
主分类号
G01S13/90
分类号
G01S13/90
G01S7/36
代理机构
北京理工大学专利中心
代理人
刘西云
李微微
技术关键词
摘要
本发明提供一种高轨SAR对低轨SAR成像的射频干扰影响评估方法,可根据高轨SAR与低轨SAR的系统参数以及地面双基地散射系数计算来自高轨SAR的射频干扰信号聚焦后的功率,然后利用低轨SAR信号聚焦后的功率和射频干扰信号聚焦后的功率计算聚焦后图像SINR,从而有效地评估高轨SAR信号对低轨SAR成像产生的影响,实现高轨SAR对低轨SAR射频干扰影响的定量分析,进而判断高轨SAR是否对低轨SAR的成像产生影响。
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一种高轨SAR对低轨SAR成像的射频干扰影响评估方法