[中国发明,中国发明授权]CN202110351415.3

一种高轨SAR对低轨SAR成像的射频干扰影响评估方法

著录项
技术关键词
摘要
本发明提供一种高轨SAR对低轨SAR成像的射频干扰影响评估方法,可根据高轨SAR与低轨SAR的系统参数以及地面双基地散射系数计算来自高轨SAR的射频干扰信号聚焦后的功率,然后利用低轨SAR信号聚焦后的功率和射频干扰信号聚焦后的功率计算聚焦后图像SINR,从而有效地评估高轨SAR信号对低轨SAR成像产生的影响,实现高轨SAR对低轨SAR射频干扰影响的定量分析,进而判断高轨SAR是否对低轨SAR的成像产生影响。

信息查询
网页搜索
学术搜索