[中国发明,中国发明授权]
CN202110141893.1
一种SAR层析高度向成像方法及系统
著录项
申请号
CN202110141893.1
申请日
20210202
公开号
CN113495271A
公开日
20211012
申请(专利权)人
北京理工大学
北京理工大学重庆创新中心
北京理工大学前沿技术研究院
当前权利人
北京理工大学
北京理工大学重庆创新中心
北京理工大学前沿技术研究院
发明人
陈志扬
胡程
董锡超
崔畅
地址
100081北京市海淀区中关村南大街5号
国省代码
北京(11)
主分类号
G01S13/90
分类号
G01S13/90
代理机构
北京理工大学专利中心
代理人
高会允
技术关键词
摘要
本发明公开了一种SAR层析高度向成像方法及系统,涉及合成孔径雷达技术领域,本发明在进行SAR层析时,考虑相关系数的影响,并根据相关系数提高SAR层析的高度向位置估计精度,避免了非强点目标对SAR层析高度向成像精度的影响。具体方案为:针对同一地区,获取其配准后的共N幅SAR图像,N至少为3;根据高度向成像需求确定平面范围内的点;对应任意一个平面点,在N幅SAR图像分别中选取当前平面点对应的像素,得到共N个待处理像素;利用N个待处理像素,对当前平面向点进行高度向散射信息求解;所有平面点的高度向散射信息组成当前地区的高度向成像。
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一种SAR层析高度向成像方法及系统