[中国发明]
CN202011353101.9
一种颅内可降解支架及其制备/使用方法
著录项
申请号
CN202011353101.9
申请日
20201127
公开号
CN112315632A
公开日
20210205
申请(专利权)人
南京浩衍鼎业科技技术有限公司
当前权利人
南京浩衍鼎业科技技术有限公司
发明人
陈鹤
赵古田
张伶
牛朗
胡雪
地址
江苏省南京市江宁经济技术开发区双龙大道2881号F12栋一楼
国省代码
江苏(32)
主分类号
A61F2/82
分类号
A61F2/82
A61F2/958
A61L31/14
A61L31/12
代理机构
南京众联专利代理有限公司
代理人
周蔚然
技术关键词
摘要
本发明公开了一种颅内可降解支架及其制备/使用方法。所述可降解支架应用于颅内血管,是由高分子量可降解聚合物、可降解磁性纳米粒子和低分子量可降解聚合物形成的多层复合材料制成的,降解周期可控。其中,支架材料含有可降解磁性纳米粒子,开启外部的交变磁场,使得可降解磁性纳米粒子产生热效应,从而在内部对支架进行升温,加快支架降解速率和可降解磁性纳米粒子自降解。相对于现有技术,本发明创造所述的颅内可降解支架的降解周期可控,升温方式具有时间、温度可控、对周围环境损伤小的特点。将内皮化后,支架的非必要降解周期从24‑36个月缩短到12‑18个月,能够减少内膜增生并将更加有效地预防和减少再狭窄的发生。
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一种颅内可降解支架及其制备/使用方法