[中国发明]
CN202011302419.4
图像传感器及深度成像系统
著录项
申请号
CN202011302419.4
申请日
20201119
公开号
CN114520238A
公开日
20220520
申请(专利权)人
瑞芯微电子股份有限公司
当前权利人
瑞芯微电子股份有限公司
发明人
徐华兵
倪强
王刚
陈楚毅
郑发耀
徐达
刘明佩
地址
福建省福州市鼓楼区软件大道89号18号楼
国省代码
福建(35)
主分类号
H01L27/146
分类号
H01L27/146
代理机构
上海光华专利事务所(普通合伙)
代理人
庞红芳
摘要
本发明提供一种图像传感器及深度成像系统,所述图像传感器包括:负电极层,形成于驱动层中;N区层,对应形成于所述负电极层表面,包含由半导体材料形成的若干圆柱状结构;光吸收层,对应形成于所述N区层表面,至少包含由量子点半导体材料形成的P区层;正电极层,对应形成于所述光吸收层表面,接收入射光束。本发明中图像传感器中光吸收层中包含量子点半导体材料,能够明显提升Time of Flight(TOF)深度成像系统的探测距离与精度。
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