[中国实用新型]CN201820656924.0

VDMOS功率器件芯片焊接层空洞补偿结构

著录项
摘要
VDMOS功率器件芯片焊接层空洞补偿结构。涉及电子封装技术领域,尤其涉及VDMOS功率器件芯片焊接层空洞补偿结构。提供了一种结构简单,有效减小芯片温升及其对器件封装结构和器件性能的影响,提高器件质量可靠性的VDMOS功率器件芯片焊接层空洞补偿结构。包括基板,所述基板上设有芯片焊接区;所述芯片焊接区的中心和四角端分别设有金属凸点组,所述金属凸点组包括金属中心凸点,所述金属中心凸点的外侧设有至少一个金属凸点环。所述金属凸点环包括至少两个,其从内到外依次分别为第一金属凸点环、第二金属凸点环……第n金属凸点环;n≥3,n为整数。本实用新型设计独特、结构简单、制作方便。

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