[中国实用新型]
CN201820656924.0
VDMOS功率器件芯片焊接层空洞补偿结构
著录项
申请号
CN201820656924.0
申请日
20180504
公开号
CN208045489U
授权公告日
20181102
申请(专利权)人
扬州扬杰电子科技股份有限公司
当前权利人
扬州扬杰电子科技股份有限公司
发明人
周理明
王毅
赵成
韩亚
孙越
张孔欣
地址
225008江苏省扬州市邗江区平山堂北路江阳创业园三期
国省代码
江苏(32)
主分类号
H01L23/498
分类号
H01L23/498
H01L21/48
代理机构
扬州市苏为知识产权代理事务所(普通合伙)
代理人
周全
葛军
摘要
VDMOS功率器件芯片焊接层空洞补偿结构。涉及电子封装技术领域,尤其涉及VDMOS功率器件芯片焊接层空洞补偿结构。提供了一种结构简单,有效减小芯片温升及其对器件封装结构和器件性能的影响,提高器件质量可靠性的VDMOS功率器件芯片焊接层空洞补偿结构。包括基板,所述基板上设有芯片焊接区;所述芯片焊接区的中心和四角端分别设有金属凸点组,所述金属凸点组包括金属中心凸点,所述金属中心凸点的外侧设有至少一个金属凸点环。所述金属凸点环包括至少两个,其从内到外依次分别为第一金属凸点环、第二金属凸点环……第n金属凸点环;n≥3,n为整数。本实用新型设计独特、结构简单、制作方便。
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VDMOS功率器件芯片焊接层空洞补偿结构