[中国发明,中国发明授权]CN201410629077.5

一种具有浮岛结构的沟槽型二极管

著录项
技术关键词
摘要
本发明属于功率半导体器件技术领域,涉及一种具有浮岛结构的沟槽型二极管。本发明的沟槽型二极管,其特征在于,在沟槽中设置有第一N型半导体掺杂区、浮空P岛和第二N型半导体掺杂区;所述第二N型半导体掺杂区位于沟槽的侧壁与栅氧化层相连;所述浮空P岛位于第二N型半导体掺杂区之间;所述第一N型半导体掺杂区位于第二N型半导体掺杂区和浮空P岛的顶部,并与阳极相连。本发明的有益效果为,可在同样的电流密度下实现更低的正向压降,器件在高温下的可靠性更好。本发明尤其适用于沟槽型二极管。

信息查询
网页搜索
学术搜索