[中国发明,中国发明授权]
CN201410629077.5
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一种具有浮岛结构的沟槽型二极管
著录项
申请号
CN201410629077.5
申请日
20141110
公开号
CN104393055A
公开日
20150304
申请(专利权)人
电子科技大学
当前权利人
电子科技大学
发明人
李泽宏
伍济
刘永
陈钱
郭绪阳
地址
611731四川省成都市高新区(西区)西源大道2006号
国省代码
四川(51)
主分类号
H01L29/861
分类号
H01L29/861
H01L29/06
代理机构
成都宏顺专利代理事务所(普通合伙)
代理人
李玉兴
技术关键词
摘要
本发明属于功率半导体器件技术领域,涉及一种具有浮岛结构的沟槽型二极管。本发明的沟槽型二极管,其特征在于,在沟槽中设置有第一N型半导体掺杂区、浮空P岛和第二N型半导体掺杂区;所述第二N型半导体掺杂区位于沟槽的侧壁与栅氧化层相连;所述浮空P岛位于第二N型半导体掺杂区之间;所述第一N型半导体掺杂区位于第二N型半导体掺杂区和浮空P岛的顶部,并与阳极相连。本发明的有益效果为,可在同样的电流密度下实现更低的正向压降,器件在高温下的可靠性更好。本发明尤其适用于沟槽型二极管。
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一种具有浮岛结构的沟槽型二极管