[中国发明,中国发明授权]
CN201410432796.8
售
抗偏置低温烧结NiCuZn铁氧体材料及其制备方法
著录项
申请号
CN201410432796.8
申请日
20140828
公开号
CN104193317A
公开日
20141210
申请(专利权)人
电子科技大学
当前权利人
电子科技大学
发明人
唐晓莉
宦丽
苏桦
张怀武
李元勋
荆玉兰
地址
611731四川省成都市高新区(西区)西源大道2006号
国省代码
四川(51)
主分类号
C04B35/26
分类号
C04B35/26
C04B35/622
代理机构
电子科技大学专利中心
代理人
李明光
技术关键词
摘要
本发明提供了一种抗偏置低温烧结NiCuZn铁氧体材料及其制备方法,属于电子陶瓷材料及其制备技术领域。该铁氧体材料的主相为尖晶石结构,分子结构表达式为Ni0.30-xZn0.47+xCu0.18Co0.05Fe1.95O4,其中x的取值范围为0~0.05。在上述NiCuZn铁氧体材料的基础上,同时采用Bi2O3、SnO2、SiO2和CaCO3作为掺杂剂,其中Bi2O3:0.5~1wt%,SnO2:0.8~1.2wt%,SiO2:0.1~0.2wt%,CaCO3:0.1~0.2wt%。本发明得到的铁氧体兼顾了高起始磁导率和抗直流偏置磁场的要求,可广泛应用于抗大直流偏置磁场或大功率的叠层片式电感器中。
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抗偏置低温烧结NiCuZn铁氧体材料及其制备方法