[中国发明,中国发明授权]
CN200610021660.3
售
微波辐照制备聚对二氧环己酮及其蒙脱土纳米复合材料的方法
著录项
申请号
CN200610021660.3
申请日
20060829
公开号
CN1919892A
公开日
20070228
申请(专利权)人
四川大学
当前权利人
成都普利铭医用材料科技有限责任公司
发明人
王玉忠
陈雨艳
李颖
汪秀丽
杨科珂
周茜
陈思翀
丁颂东
地址
610064四川省成都市九眼桥四川大学化学学院
国省代码
四川(51)
主分类号
C08G63/42
分类号
C08G63/42
C08G63/84
C08G63/85
C08L67/00
C08K9/04
代理机构
成都科海专利事务有限责任公司
代理人
唐丽蓉
技术关键词
摘要
本发明公开了一种微波辐照制备聚对二氧环己酮及其蒙脱土纳米复合材料的方法,其特征在于该方法是在氮气保护下,或是将对二氧环己酮和催化剂按一定的配比,或是将对二氧环己酮、催化剂和引发剂按一定的配比,或是将对二氧环己酮、蒙脱土和催化剂按一定的配比,置于微波发生装置中,在其设定温度下,辐照反应并将反应所得产物用溶剂溶解,加入沉淀剂中沉淀,过滤,真空干燥后即得线形或星形聚对二氧环己酮纯化产物,或聚对二氧环己酮/蒙脱土纳米复合材料。本发明开环聚合效率高、成本低、操作简便、省时、节能、环保,且能在较短的时间内开环聚合成分子量相对较高的产物。
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微波辐照制备聚对二氧环己酮及其蒙脱土纳米复合材料的方法